粉體行業在線展覽
GK系列高比表氫氧化鈣
100-150萬元
GK系列高比表氫氧化鈣
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桂林礦機(桂礦)高比表氫氧化鈣設備氫氧化鈣超細磨粉機是專用于生產高比表面積氫氧化鈣的關鍵設備,采用高速沖擊、剪切與分級技術,將氫氧化鈣原料粉碎至微米級(可達325-3000目)。其核心優勢包括:
高效研磨:多層粉碎結構設計,結合精準分級系統,確保粒度分布均勻;
智能調控:PLC自動化控制,實時調節轉速、風量等參數,提升穩定性;
環保節能:密封式結構+負壓除塵,粉塵外溢率<5%,能耗較傳統設備降低20%;#氫氧化鈣超細磨粉機#
耐腐耐用:主機采用耐磨合金或陶瓷內襯,適應高濕度、強堿性環境。
廣泛應用于環保脫硫、醫藥、精細化工等領域,滿足超細粉體加工需求。
GKLM1100
GK1720A
GK1720
高比表面積氫氧化鈣設備
方解石雷蒙磨
4R3220/GK1280/5R4128
GK1620/1700/1850
GKSH新型石灰消化器
GK系列雷蒙磨
GK系列雷蒙磨粉機
GK1920/2150/2500
GK1280/5R4128/GK1500