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Vasco Kin原位時間分辨納米粒度分析是新一代動態光散射納米粒度分析儀，通過遠程光學探頭，進行原位非接觸測量和反應動力學，用于監測納米顆粒的合成、團聚或懸浮液穩定性的研究或監測。常用于實時納米顆粒合成過程監控， 核反應堆內現場測量，與其它粒度特性測量儀器聯用(如光譜儀、SAXS等)。

• 粒度測量范圍 : 0.5nm 到 10μm

• 背向動態光散射原理，實時遠程非接觸測量

• 監測納米顆粒合成過程；監測整個過程的粒度變化情況，有助于穩定性研究

• 全自動非接觸測量：能穿透玻璃和塑料針管，測定包裝物及反應釜中的粒度分布和隨時間的變化

• 適用樣品濃度：0.1ppm-40%（w/v）

• 時間分辨: DLS的分辨率為0.2s，用于動力學監測

• 隨時間變化的粒度分布彩色地形圖

• “時間切片”功能：用戶對測試后數據可進行任意時間段內的粒度分析

• 樣品前處理：無需樣品前處理，直接測試

• 硬件規格（核心單元）：

  1. 激光源： 高穩定性激光二極管（可選藍光和綠光）

  2. 探測器： 無偽影雪崩光電二極管（APD）

  3. 計算設備： 內嵌專用電腦

  4. 數據處理： NanoKin® 相關和分析軟件

  5. 典型測量時間：*快200ms。測量時間由樣品和測量設置決定

  6. 操作條件/存儲條件：15℃ ~ 40℃ / -10℃ ~ 50℃ – 非冷凝相對濕度 < 70%

  7. 尺寸/重量： 220 x 220 x 64 mm (上半部分) / 2.5 kg

  220 x 220 x 48 mm (下半部分) / 2.8 kg

• Nano Kin™軟件的主要特點：

  - 三個層級登錄配置文件：管理員、專家、操作員

  - 運行模式：包括測量、模擬、后分析（導入）

  - 直觀導航（順序）

  - 時間切片和動力學模式：獨特的技術，允許監測快速動力學和/或準確的再現性測量（時間分辨率高達200毫秒）。

  - 可讀數據和繪圖：

  - 動態導出數據/繪圖（右鍵單擊到剪貼板）

  - 報告文件格式：.pdf或.rtf（兼容writer軟件）

  - 反轉算法：

  - CUMULANTS 累積量算法：用于具有單分散趨勢的單峰樣品

  - PADE-LAPLACE算法（專有）：多峰樣品的離散數學方法。

  - 稀疏貝葉斯學習算法（SBL；專有）：多峰樣品的連續分布數學方法。對于所期望的分布斜率不需要先驗知識，正則化參數自學習概率計算模塊。