粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
直接聯(lián)系
上海泰坦科技股份有限公司
上海
面議
750
儀器簡介：
752、754、756PC產(chǎn)品適用于對紫外、可見光譜區(qū)域內(nèi)物質(zhì)的含量進(jìn)行定量分析，可廣泛應(yīng)用于工廠、學(xué)校、冶金、農(nóng)業(yè)、食品、生化、環(huán)保、石油化工、醫(yī)療衛(wèi)生等單位的基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)室。
技術(shù)參數(shù)：
| 型號 | 752 | 754 | 756PC |
| 帶寬 | 4nm | 4nm | 2nm |
| 波長范圍 | 200～1000nm(步進(jìn)間隔0.1nm) | 190～1100nm(步進(jìn)間隔0.1nm) | 190～1100nm(步進(jìn)間隔0.1nm) |
| 波長準(zhǔn)確度 | ±2.0nm(開機(jī)自動校準(zhǔn)) | ±1.0nm(開機(jī)自動校準(zhǔn)) | ±1.0nm(開機(jī)自動校準(zhǔn)) |
| 波長重現(xiàn)性 | 1nm | 0.5nm | 0.5nm |
| 測定范圍 | T：-1.0～200.0%T，A：-0.5～3.000Abs，F(xiàn)：0～9999，C：0～9999 | ||
| 透射比準(zhǔn)確度 | ±0.5%T | ||
| 透射比重復(fù)性 | ±0.2%T | ||
| 雜散光 | ≤0.5%T(在220nm、340nm處) | ≤0.3%T(在220nm、340nm處) | ≤0.15%T(在220nm、340nm處) |
| 基線直線性 | / | / | ±0.004A |
| 穩(wěn)定性/基線漂移 | ±0.003A/h | ±0.002A/h | ±0.002A/h |
| 顯示器 | 128×64大屏幕液晶顯示 | ||
外形尺寸：455*430*220(mm)
主要特點(diǎn)：
功能
自動波長，鍵盤輸入，波長設(shè)定和轉(zhuǎn)換更快速。
一階過零、一階線性標(biāo)準(zhǔn)曲線測試、*多可建立12個標(biāo)樣點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)曲線。
標(biāo)定曲線擬合度，濃度直讀，可保存50條曲線參數(shù)。
濃度因子設(shè)定和濃度設(shè)定的濃度直讀功能，可保存200條測試記錄。
系統(tǒng)時(shí)鐘管理，暗電流校正，波長校正，USB數(shù)據(jù)接口，燈切換波長設(shè)置。
8鍵鍵盤，內(nèi)置6個常用工作波長，一鍵調(diào)取(752)
UV-Solution 2.0工作站軟件，具有各種測試、掃描功能(756PC)
軟件功能說明
| 軟件型號 | 適用儀器 | 軟件功能 |
| UV-Solution 1.0 | 752、754 | 定量測試、吸光度監(jiān)視等功能 |
| UV-Solution 2.0 | 756PC | 定量測試：可進(jìn)行一、二、三階擬合標(biāo)準(zhǔn)曲線測試，*多可通過20個標(biāo)樣建立標(biāo)準(zhǔn)曲線。可選擇單波長，雙波長或三波長條件下測試。 動力學(xué)測試：對樣品進(jìn)行時(shí)間掃描，測試時(shí)間可達(dá)7天。采樣時(shí)間0.5、1、2、5、10、30、60秒可選，可保存10000條測試數(shù)據(jù)。 波長掃描：在任意波長范圍內(nèi)以0.1、0.2、0.5、1、2、5nm的掃描間隔對樣品進(jìn)行掃描，并對圖譜進(jìn)行縮放、平滑、四則運(yùn)算、坐標(biāo)調(diào)整、峰/谷自動檢測、1~4階導(dǎo)數(shù)等數(shù)據(jù)處理，可容納八個掃描圖譜。 多波長測試：*多可設(shè)置15個測試波長點(diǎn)。 數(shù)據(jù)導(dǎo)出：數(shù)據(jù)和圖譜可導(dǎo)出為txt和bmp格式文件供用戶編輯。 附功能：核糖核酸/蛋白質(zhì)測量：快速測量DNA樣品在特定波長下的吸光度，自動計(jì)算樣品濃度及DNA Ratio。 |
LUMiFlector
ASD
Zetium
Serstech 100 Indicator
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近紅外光譜分析儀(點(diǎn)擊可看詳細(xì)資料)
Metorex C100型
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