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儀器簡介：

光致熒光光譜測量是半導體材料特性表征的一個被普遍認可的重要測量手段。MiniPL為模塊化設計、計算機自動控制的高靈敏度、寬帶隙小型PL（光致熒光）光譜儀；MiniPL采用Photon Systems公司自行研發(fā)的深紫外激光器224nm(5.5eV)或248.6nm(5eV)作為激發(fā)光源，配合獨特的光路設計，采用高靈敏度PMT作為探測器件，并通過儀器內(nèi)置的門閘積分平均器（Boxcar）進行數(shù)據(jù)處理，實現(xiàn)微弱脈沖信號的檢測。MiniPL可被用表征半導體材料摻雜水平分析、合成組分分析、帶隙分析等，不僅可用于科研領(lǐng)用，更可用在半導體LED產(chǎn)業(yè)中的品質(zhì)檢測。

技術(shù)參數(shù)：

主要規(guī)格特點：

■ 采用5.5(224nm)或5.0 eV(248.6nm)深紫外激光器

■ 室溫PL光譜測量范圍：190~650nm（標準），190~850nm（選配）

■ 高分辨率：0.2nm（@1200g/mm光柵，標配），

0.07nm（@3600g/mm光柵，選配）

■ 門閘積分平均器（Boxcar）進行微弱脈沖信號的檢測

■ 可實現(xiàn)量子效率測量

■ 基于LabView的界面控制

■ 光譜分析軟件可獲得光譜帶寬、峰值波長、峰值副瓣鑒別、光譜數(shù)據(jù)運算、歸一化等

■ **可測量50mm直徑樣品，樣品可實現(xiàn)XYZ三維手動調(diào)整（標準）

■ 可選配自動樣品掃描裝置，實現(xiàn)Mapping功能

■ 可用于紫外拉曼光譜測量

■ 高度集成化，體積：15 ×18 × 36cm，重量：<8kg

主要特點：

光致熒光光譜測量是半導體材料特性表征的一個被普遍認可的重要測量手段。MiniPL為模塊化設計、計算機自動控制的高靈敏度、寬帶隙小型PL（光致熒光）光譜儀；MiniPL采用Photon Systems公司自行研發(fā)的深紫外激光器224nm(5.5eV)或248.6nm(5eV)作為激發(fā)光源，配合獨特的光路設計，采用高靈敏度PMT作為探測器件，并通過儀器內(nèi)置的門閘積分平均器（Boxcar）進行數(shù)據(jù)處理，實現(xiàn)微弱脈沖信號的檢測。MiniPL可被用表征半導體材料摻雜水平分析、合成組分分析、帶隙分析等，不僅可用于科研領(lǐng)用，更可用在半導體LED產(chǎn)業(yè)中的品質(zhì)檢測。