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DESI XS：新型設(shè)計(jì)、性能優(yōu)異

DESI™ XS旨在利用創(chuàng)新科技實(shí)現(xiàn)更高的質(zhì)量、可靠性和簡(jiǎn)便性。該離子源可部署在沃特世高分辨率質(zhì)譜儀產(chǎn)品組合中，為市場(chǎng)帶來一套靈活的解決方案，確保所有成像分析客戶均能穩(wěn)定獲得高性能。DESI XS是沃特世新一代DESI MS成像技術(shù)開發(fā)的基礎(chǔ)，可滿足未來對(duì)MS成像分析的需求。

沃特世全新設(shè)計(jì)性能改進(jìn)版DESI MS成像離子源

解吸電噴霧電離(DESI)質(zhì)譜技術(shù)可從各種分析物表面直接獲得化學(xué)信息。DESI成像分析可提供分析物表面的分子空間分布信息。DESI可提供精美且信息豐富的圖像，使科學(xué)家能夠解答以下基本問題：“這種組分在樣品中哪些地方？”

精美且信息豐富的圖像

DESI XS生成的鼠腦切片圖像顯示了3種不同脂質(zhì)（紅色、綠色和藍(lán)色）的空間分布。鼠腦內(nèi)不同的空間分布表明它們具有不同的分子功能。

DESI發(fā)展歷程中的重要里程碑

十多年來，Waters™一直積極投身于MS成像技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展，在過去六年中專注于DESI影像技術(shù)。為了在MS成像領(lǐng)域不斷取得成功，自2019年10月1日起，沃特世從Prosolia Inc.和普渡研究基金會(huì)(Purdue Research Foundation)獲得了DESI技術(shù)的專有權(quán)。憑借對(duì)DESI技術(shù)和現(xiàn)有MALDI技術(shù)的投入，沃特世致力于推動(dòng)MS成像技術(shù)的發(fā)展，創(chuàng)造一個(gè)令人期待的未來。

DESI XS解決方案

與開放式DESI離子源相比，新型離子源設(shè)計(jì)包括部分密封的外殼，從而提高環(huán)境穩(wěn)定性并減少樣品分析過程中的大氣干擾。它可以屏蔽潛在的溶劑蒸氣和樣品氣溶膠，保護(hù)待分析的樣品免受污染，因此可為用戶和同時(shí)為樣品提供安全的環(huán)境。

與之前的自上而下的視圖方式不同，該離子源還提供了相機(jī)，用于查看DESI噴霧器和樣品的側(cè)面。這有助于用戶更輕松地找到用于DESI分析的更好的噴霧位置。

離子源的內(nèi)部組件在設(shè)計(jì)時(shí)即考慮了穩(wěn)定性和可用性。噴霧器電樞采用彈簧臂精密制造，其中包括籠式滾柱軸承，可為大規(guī)模采集提供更高的精密度和耐用性。

與業(yè)內(nèi)優(yōu)質(zhì)的顯微鏡載物臺(tái)制造商合作，將先進(jìn)的步進(jìn)電機(jī)載物臺(tái)整合到離子源中，以便利用不同的支架，從而檢查各種類型的樣本。其獨(dú)特的S曲線加速算法可實(shí)現(xiàn)快速、平穩(wěn)的定位而不產(chǎn)生振動(dòng)，從而減少對(duì)樣品的干擾，有望獲得聚焦的、一致的影像。

離子源率先實(shí)現(xiàn)了電子設(shè)備和氣體處理功能的集成，意味著在分析結(jié)束時(shí)可自動(dòng)關(guān)閉氣體和電壓。這樣不僅更加環(huán)保，還能節(jié)省MS成像消耗品的成本，并延長(zhǎng)DESI噴霧器的使用壽命。

通過豐富的信息加快發(fā)現(xiàn)進(jìn)程

DESI XS離子源能夠產(chǎn)生離子圖像，并提供一致、可靠的信號(hào)強(qiáng)度，從而清晰地顯示分子空間分布。通過提高分析過程中決策制定的可信度，加快發(fā)現(xiàn)研究的速度。該離子源可確保顯示的圖像中清晰定義了各組分的分子空間分布，并可通過高分辨率成像(HDI™)軟件輕松快速地進(jìn)行處理。DESI XS和MALDI雙成像系統(tǒng)，可在SYNAPT XS上完全實(shí)現(xiàn)。該系統(tǒng)與上述分析技術(shù)結(jié)合后非常適用于分析肽、脂質(zhì)和小分子代謝物。采用的雙電離技術(shù)相互補(bǔ)充，可為質(zhì)譜成像提供全面的信息。

HRMS平臺(tái)的DESI XS適用范圍

新型DESI XS離子源專門設(shè)計(jì)用于穩(wěn)定的DESI MS成像系統(tǒng)。該離子源與SELECT SERIES™ Cyclic™ IMS、SYNAPT XS和Xevo™ G2-XS QTof系統(tǒng)完全兼容，為市場(chǎng)帶來一套靈活的解決方案，確保所有成像分析客戶均能穩(wěn)定獲得高性能。DESI XS是沃特世新一代DESI MS成像技術(shù)開發(fā)的基礎(chǔ)，可滿足未來對(duì)MS成像分析的需求。