粉體行業(yè)在線展覽
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M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備
直接聯(lián)系
中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所
湖南
面議
電子科技
M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備
475
高溫氧化爐是半導(dǎo)體器件加工中的典型熱處理設(shè)備，用于集成電路、分立器件、太陽能光伏行業(yè)中進(jìn)行氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。
高產(chǎn)能，單管產(chǎn)能可達(dá)1600片/批；
溫控系統(tǒng)性能出色，采用可預(yù)測(cè)型五段雙回路智能溫控系統(tǒng)以及新型爐體，控溫精度和回溫性能優(yōu)異；
全套倍福系統(tǒng)及總線控制方式，可靠性和信息化化性能優(yōu)異；
自動(dòng)上下料系統(tǒng)，采用全自動(dòng)上下料、在線式插取片對(duì)接系統(tǒng)，擴(kuò)展了設(shè)備自動(dòng)化程度，降低人工勞動(dòng)強(qiáng)度，減少人工污染。
產(chǎn)能 | 硅片尺寸 | 156×156mm方片 |
單管裝片量 | 1600片/批（槽間距2.38mm） | |
工藝類型 | 高溫氧化、退火工藝 | |
溫度控制系統(tǒng) | 控溫方式 | 5段雙回路串級(jí)控制 |
控溫范圍 | 600℃～1100℃ | |
恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度 | ≤±0.5℃/1600mm（801℃～1100℃） ≤±1℃/1600mm（400℃～800℃） | |
單點(diǎn)穩(wěn)定性 | ±0.5℃/24h(靜態(tài)，900℃) | |
爐體升降溫速率 | **升溫20?C/min；**降溫5?C/min | |
氣路系統(tǒng) | 流量控制方式 | 氮?dú)狻⒀鯕饬髁坑蒑FC控制；保護(hù)氮?dú)庥筛∽恿髁坑?jì)控制 |
氣體控制精度 | ±0.5%FS | |
送舟機(jī)構(gòu) | 水平推舟速率 | 1～400mm/min 連續(xù)可調(diào)，定位精度≤±1mm |
垂直升降速率 | 8～12mm/min | |
石英舟進(jìn)出方式 | 軟著陸、在線式（凈化臺(tái)側(cè)出舟） | |
SiC槳**承載 | 25Kg | |
控制系統(tǒng) | 工藝監(jiān)控方式 | 工業(yè)平板電腦全自動(dòng)控制（觸摸屏操作） |
自動(dòng)控溫功能 | 具有自動(dòng)斜率升降溫及恒溫功能 | |
工藝歷史記錄功能 | 核心工藝參數(shù)（溫度、壓力、流量、功率、電流、淀積時(shí)間）每3秒記錄一次，其他過程每10秒記錄一次。 | |
報(bào)警保護(hù)功能 | 設(shè)備具有工藝狀態(tài)聲光提醒，以及計(jì)算機(jī)異常、超溫報(bào)警與欠溫、MFC偏差、反應(yīng)室壓力偏差、極限超溫報(bào)警和保護(hù)功能； | |
其他參數(shù) | 設(shè)備峰值功率 | 280 KVA（5管） |
保溫功率 | 75 KVA（5管） | |
設(shè)備柜體尺寸 | 7440mm(長(zhǎng)）×2020mm（寬）×3530（高） | |
設(shè)備利用率 | ≥98% |
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