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本設(shè)備適用于評(píng)估和控制在半導(dǎo)體生產(chǎn)中的外延過(guò)程并且以被使用在多種不同的材料上，　例如：Silicon， Germanium， III-V including III-Nitrides.

CVP21的凈室和模塊化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)使得本系統(tǒng)可以高效率，準(zhǔn)確的測(cè)量半導(dǎo)體材料（結(jié)構(gòu)，層）中的摻雜濃度分布．選用合適的電解液與材料接觸，腐蝕，從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過(guò)程由軟件全自動(dòng)控制

CVP21的系統(tǒng)特點(diǎn)

• 堅(jiān)固可靠的模塊化系統(tǒng)結(jié)構(gòu) ．光學(xué)，電子和化學(xué)部分相對(duì)獨(dú)立．

• 精確的測(cè)量電路模塊

• 強(qiáng)力的控制軟件，系統(tǒng)操作，使用簡(jiǎn)便

• 完善的售后服務(wù)

知名用戶:

(Shin-Etsu SEH or ISFH)In the field of solar cell research， the CVP21 system is currently being used at many research centres. It was first used in 1999 by the Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems (ISE) in Freiburg， Germany， and since then it has been installed at the Institute for Molecules and Materials (IMM) in Nijmegen， The Netherlands， the RWE Space Solar Power GmbH in Heilbronn， Germany， the Hahn-Meitner-Institute (HMI) in Berlin， Germany， and the Institute for Solar Energy Research (ISFH) in Hamelin/Emmerthal， Germany.

在德國(guó)和日本都有很多太陽(yáng)能電池用戶使用，鑒于商業(yè)保密需要不能公開。