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• 高靈敏度探測(cè)器使系統(tǒng)能時(shí)時(shí)反映工藝變化，避免了溢流事故發(fā)生

• 非接觸、非插入式技術(shù)，保證儀表維護(hù)率低，使用壽命長(zhǎng)

• 小活度伽瑪放射源，可提供高精度、重復(fù)性測(cè)量，提高了裝置安全性，降低了防護(hù)成本

• 在寬溫范圍內(nèi)可實(shí)現(xiàn)零漂移，保證了探測(cè)器的穩(wěn)定性和出色的測(cè)量精度

• 放射源和探測(cè)器安裝在容器或管道的同一側(cè)，安裝時(shí)無(wú)需停止工藝流程

• 二次表距現(xiàn)場(chǎng)安裝位置可達(dá)50英尺，方便維護(hù)

應(yīng)用：

• 控制漿液罐中的絮凝劑進(jìn)料量和底流排放

• 控制澄清器底部料位

• 加氫處理裝置固體含量控制和輸出控制

• 將沉降槽密度控制在特定水平

• 重介質(zhì)分離，以控制固體含量

• 測(cè)量大型管道中的純堿密度

• 測(cè)量尾礦管道中的工藝材料