粉體行業在線展覽
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實驗室真空高溫爐
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美國Quantum Design公司
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Quantum Design
實驗室真空高溫爐
2117
* 豐富加熱原件可供選擇
* 最高溫度可達3000°C
* 可實現超高真空
* 可實現Ar/N2/O2/H2等多種氣氛環境
設備簡介
美國Thermal Technology高溫爐適用于各種實驗室應用及小規模生產。操作簡單，性能穩定。**可定制溫度達3000℃。
設備特點：
* 豐富加熱原件可供選擇
* **溫度可達3000°C
* 可實現超高真空
* 可實現Ar/N2/O2/H2等多種氣氛環境
應用領域:
美國Thermal Technology高溫爐可用于粉末冶金、金屬化合物、陶瓷、半導體、物理、化學、材料、光學等諸多領域的樣品合成及熱處理工藝。
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