粉體行業(yè)在線展覽
真空熱壓燒結(jié)爐
面議
河南酷斯特
真空熱壓燒結(jié)爐
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1. 設(shè)備用途
本設(shè)備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶瓷、無機(jī)化合物、納米材料等在真空或保護(hù)氣氛的條件下進(jìn)行加壓加熱燒結(jié)處理,以便獲得高致密度的產(chǎn)品,例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等。
2. 方案圖
3. 主要技術(shù)參數(shù)
3.1 電源:三相380V 50Hz
3.2設(shè)計(jì)溫度:2200℃
3.3額定溫度:室溫-2100℃
3.4控溫區(qū)數(shù):一區(qū)
3.5控溫方式:1200℃低溫時(shí)候熱電偶測溫,1200℃以上高溫紅外測溫
3.8控溫精度:≤±1℃。
3.9冷態(tài)極限真空度:≤6.7*10-3Pa(空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后)
3.10充氣氣氛:惰性氣體
3.10充氣壓力(微正壓):≤0.03MPa
3.11***壓力:10T(數(shù)顯、自動(dòng)調(diào)壓、自動(dòng)保壓、伺服電動(dòng)控制)
3.12工作區(qū)域壓頭尺寸直徑:Ф150 mm
3.13 樣品尺寸:Ф50-80mm
3.13壓力波動(dòng):≤±0.01KN,位移精度≤0.01mm
3.14壓力行程:0~100mm(數(shù)顯)
3.15壓力控制:伺服電動(dòng)缸
3.16 控制方式:觸摸屏+plc模
HTBL
DNN430C/630C/460C/660C
BAF1200真空氣氛爐
特殊高比重材料高真空燒結(jié)爐
VHP-H 真空熱壓爐(臥式)
AMB真空釬焊爐
HVSF
DGBZ型
無
略
3D打印專用脫脂爐
真空氣氛爐