粉體行業在線展覽
石墨純化爐和CVD/CVI/CVA涂層爐
面議
PVA TePla
石墨純化爐和CVD/CVI/CVA涂層爐
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石墨純化爐
首先在真空條件下對批量產品進行高溫純化,在該過程中,揮發性成分經高溫釋放揮發。下一步處理使用鹵素氣體,確保氯和氟在工藝中作為有效的反應物。典型的**工藝溫度為2200℃,但在個別情況下可以達到2400℃。
在這種極端的工藝條件下,必須要**限度地考慮安全問題,并精準了解所用材料的確切特性。
在選擇所用的材料和部件時要考慮到反應性氣氛,以確保系統具有盡可能長的使用壽命。
為了確保符合德國TA Luft空氣質量法規等標準,使用的工藝氣體及其反應產物作為廢氣排放前需要進行后處理。這種后處理通常由一個氣體洗滌器來完成。
PlasmaPen? 大氣式等離子系統
PlasmaPen? 大氣式等離子機
射頻等離子機
IoN系列等離子系統
條形等離子系統 80 Plus
批量封裝處理系統 等離子系統 GIGA690
單晶片系統
GIGAbatch 310M等離子系統
SAM 大視場掃描系統
PVA TePla SAM系列的超聲波掃描顯微鏡
VPD量測系統
雷射量測系統