粉體行業(yè)在線展覽
YS-C08S01
面議
YS-C08S01
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粵升設(shè)備融合二十余年的SiC晶體工藝經(jīng)驗(yàn)打造,給您提供高質(zhì)量,低成本的SiC單晶。
設(shè)備名稱:液相法SiC單晶爐
規(guī)格參數(shù)
設(shè)備型號:YS-C08S01
設(shè)備尺寸:L1800xW1400xH3750mm
適用工藝:LPE法(兼容PVT法)
長晶尺寸:6吋兼容8吋
籽晶/坩堝升降行程:200mm
籽晶/坩堝旋轉(zhuǎn)速度范圍:0-180rpm
**加熱溫度:800~2200℃C
設(shè)備特點(diǎn)
·液相法SiC長晶特點(diǎn)
·生長的晶體質(zhì)量高,缺陷少,沒有微管類缺陷,晶體應(yīng)力低,
·可生長n型、p型SiC單晶晶錠,也可生長3C-SiC
·生長過程對溫場影響小,工藝穩(wěn)定性好
·不需預(yù)合成SiC粉原料,生長成本低
·生長溫度低,能耗低。
JRF 系列
略
VSF-V 石英槽沉爐
氮化鋁粉體量產(chǎn)爐
厚膜燒結(jié)爐
碳化硅涂層CVD爐
蓄熱式熱力氧化RTO
中頻感應(yīng)爐
燒結(jié)爐(硬質(zhì)合金)
FZL(T)-360/17
YSJ-171212
鋼帶傳動(dòng)隧道式電阻爐