粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
直接聯(lián)系
北京燕京電子有限公司
美國
面議
1023
產(chǎn)品簡介：
基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件，很容易操作
先進的深紫外光學(xué)及堅固耐用的抗震設(shè)計，以確保系統(tǒng)能發(fā)揮出好的性能及長的正常運行時間
基于陣列設(shè)計的探測器系統(tǒng)，以確保快速測量
低價格，便攜式及靈巧的操作臺面設(shè)計
在很小的尺寸范圍內(nèi)，多可測量多達5層的薄膜厚度及折射率
在毫秒的時間內(nèi)，可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數(shù)
能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率
系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫
對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復(fù)合模型（EMA）測量分析
系統(tǒng)集合了可視化、光譜測量、仿真、薄膜厚度測量等功能于一體
能夠應(yīng)用于不同類型、不同厚度(zui厚可測200mm)的基片測量
使用深紫外光測量的薄膜厚度zui低可至20 ?
2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面
先進的成像軟件可用于諸如角度、距離、面積、粒子計數(shù)等尺寸測量
各種不同的選配件可滿足客戶各種特殊的應(yīng)用
系統(tǒng)配置：
型號：MSP100RTM
探測器：2048像素的CCD陣列
光源：高功率的深紫外－可見光光源
光傳送方式：光纖
自動的臺架平臺：特殊處理的鋁合金操作平臺，能夠在5”×3”的距離上移動，并且有著1μm的分辨率，程序控制
物鏡有著長焦點距離:4×，10×，15×(DUV)，50×
通訊接口：USB的通訊接口與計算機相連
測量類型：反射/透射光譜、薄膜厚度/反射光譜和特性參數(shù)
計算機硬件：英特兒酷睿2雙核處理器，200G硬盤、DVD刻錄機，19”LCD顯示器
電源：110–240V AC/50-60Hz，3A
尺寸：16’x16’x18’ (操作桌面設(shè)置)
重量：120磅總重
保修：一年的整機及零備件保修
基本參數(shù)：
波長范圍：250nm到1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸：100µm (4x)， 40µm (10x)， 30µm (15x)， 8µm (50x)
基片尺寸：zui多可至20mm厚
測量厚度范圍: 20Å 到25 µm
測量時間：zui快2毫秒
精度*：優(yōu)于0.5％（通過使用相同的光學(xué)常數(shù)，讓橢偏儀的結(jié)果與熱氧化物樣品相比較）
重復(fù)性誤差*：小于2 ?
應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體制造（PR，Oxide， Nitride..)
液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）
醫(yī)學(xué)，生物薄膜及材料領(lǐng)域等
油墨，礦物學(xué)，顏料，調(diào)色劑等
醫(yī)藥及醫(yī)藥中間設(shè)備等
光學(xué)涂層，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..
半導(dǎo)體化合物
在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜
非晶體，納米材料和結(jié)晶硅
產(chǎn)品可選項：
波長可擴展到遠深紫外光或者近紅外光范圍
高功率的深紫外光?用于小斑點測量
可根據(jù)客戶的特殊需求來定制
在動態(tài)實驗研究時，可根據(jù)需要對平臺進行加熱或致冷
可選擇的平臺尺寸zui多可測量300??mm大小尺寸的樣品
更高的波長范圍的分辨率可低至0.1nm
各種濾光片可供各種特殊的需求
可添加應(yīng)用于熒光測量的附件
可添加用于拉曼應(yīng)用的附件
可添加用于偏光應(yīng)用的附件
