粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
直接聯系
鉑悅儀器（上海）有限公司
德國
面議
822
產品概述
MProbe Vis薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs， InGaAs，CdTe， CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs， InGaAs，CdTe， CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。
測量范圍: 15 nm -50um
波長范圍: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層， 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy， Tauc-Lorentz， Cody-Lorentz， EMA等。
測量指標：薄膜厚度，光學常數
界面友好: 一鍵式測量和分析。
MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。
案例1，300nm二氧化硅薄膜的測量：
硅晶圓反射率，測量時間10ms：
案例2，測量500nm氮化鋁，測量參數：厚度和表面粗糙度
