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小型臺式無掩模光刻系統
小型臺式無掩模光刻系統是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。
傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩模板的設計通常需要經常改變。無掩模光刻技術通過以軟件設計電子掩模板 的方法，克服了這一問題。與通過物理掩模板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩模直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。
產品特點
Focus Lock自動對焦功能 Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，并通過Z向調整和補償，以保證曝光分辨率。 | 光學輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向**精度100 nm，方便快捷。 |
標記物自動識別 點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。 | 直寫前預檢查 軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫準確。 |
簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。 | Clewin 掩模圖形設計軟件 ? 可以讀取多種圖形設計文件（DXF， CIF， GDSII， 等） ? 可以直接讀取TIFF， BMP 等圖片格式 ? 書寫范圍只由基片尺寸決定 |
產品參數
Microwriter ML3 | 基本型 | 增強型 | 旗艦型 |
**樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
**直寫面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8 （365+405nm雙光源可選） |
直寫分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm， 1μm， 2μm， 5μm |
直寫速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
對準顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 and x10 自動切換 | x3， x5， x10， x20 自動切換 |
多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
*小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
樣品臺*小步長 | 100nm | 100nm | 50nm |
光學輪廓Z分辨率 | 無(可升級) | 300nm | 100nm |
樣品表面自動對焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直寫(255級) | 是 | 是 | 是 |
自動晶片檢查工具 | 無(可升級) | 有 | 有 |
溫控樣品腔室 | 無(可升級) | 無(可升級) | 有 |
氣動減震光學平臺 | 無(可升級) | 無(可升級) | 有 |
應用案例
直寫分辨率0.1μm
直寫分辨率0.6μm
微電極制備
光刻膠上的圖形 | Au電極（SEM） | Au電極（SEM） |
設計圖 | 光刻膠上的圖形 | 放大圖的顯微結構 |
微結構制備
微流通道制備
XRD-晶向定位
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自動劃片機
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等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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HSE系列等離子刻蝕機
