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美國Trion Technology

等離子刻蝕、等離子刻蝕機

反應式離子刻蝕(RIE/ICP)系統及沉積(PECVD)系統

Trion始于一九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。我們的產品在業內以系統占地面積小、成本低而著稱，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。從整套的批量生產用設備，到簡單的實驗室研發用系統，盡在Trion等離子刻蝕機、等離子去膠機、RIE等離子刻蝕機、微波等離子去膠機、plasma stripper

等離子刻蝕機

- 低損傷去膠系統

新式去膠系統的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通過兩套價格低廉、緊湊的多功能系統使這一關鍵問題得到解決：Gemini和Apollo。利用ICP(電感耦合等離子)、微波和射頻偏置功率，可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據應用要求，每套系統可以結合SST-Lightning 微波源(既可靠又沒有任何常見的微波調諧問題) 或ICP 技術。

等離子刻蝕機

刻蝕速率高達6微米/分

高產量

等離子損傷低

自動匹配單元

適用于100mm 到300mm 基片

設備占地面積小

價格具競爭性

等離子刻蝕

刻蝕/沉積

Titan是一套用于半導體生產的十分緊湊、全自動化、帶預真空室的等離子系統

包含：等離子刻蝕機、等離子去膠機、RIE等離子刻蝕機、微波等離子去膠機、plasma stripper