粉體行業在線展覽
CMD2000/4
5-10萬元
IKN
CMD2000/4
2908
0-10微米
IKN定轉子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機一般為0.5-0.7mm,IKN定轉子更加精密,對于物料的細化效果更好。另外,IKN乳化機配置三組定轉子,物料通過工作腔體,相當于被剪切處理了3遍,乳化分散均質更徹底。
化工 醫藥 食品
北京 江西
納米高剪切膠體磨,納米膠體磨,小型納米膠體磨,納米研磨機,高剪切膠體磨,膠體磨價格
納米高剪切膠體磨 納米膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
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根據一些行業的特殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎上又開發了一款CMS2000納米超高速膠體磨,轉子的線速度可以達到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小。
納米高剪切膠體磨CMS2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,*小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。