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儀器簡介：

應(yīng)用于IC、半導(dǎo)體制造及科研開發(fā)等領(lǐng)域

覆蓋生產(chǎn)線上所有非金屬薄膜

多參數(shù)和多層膜測量

技術(shù)參數(shù)：

Nanothi 100技術(shù)規(guī)格

可測薄膜

可測膜層 Oxide、Nitride、BPSG、PR、PI、Polymer、Polysilicon、ITO等

膜層結(jié)構(gòu) Oxide/Si、PR/Si、Nitride/Si、Polysilicon/Oxide/Si 等單、多層結(jié)構(gòu)

測量參數(shù) T，N，K，R

測量范圍 25nm - 20µm (Oxide/Si)

硬件規(guī)格

光譜范圍 400-800nm

物鏡倍率 4X 10X 40X

光斑尺寸 *小30µm

機(jī)械分辨率 X：1µm， Y：1µm， Z：0.04µm

測量指標(biāo)

250Å－2000Å 2000Å－20µm

準(zhǔn)確度 ±1％ ±1％

重復(fù)性（3б） 0.75Å 0.05％

穩(wěn)定性（3б） 2.4Å 0.25％

測量時(shí)間 單點(diǎn) < 3sec， 5點(diǎn) <30sec

主要特點(diǎn)：

先進(jìn)的光學(xué)測量技術(shù)

高精度、高重復(fù)性測量

穩(wěn)定、使用壽命長且低成本的光源

高性能PDA

自動(dòng)調(diào)焦

三維全自動(dòng)機(jī)械平臺(tái)

貼近生產(chǎn)實(shí)際操作習(xí)慣的軟件系統(tǒng)，為測量提供快捷、方便易用的操作

數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確測量與實(shí)時(shí)評(píng)價(jià)