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用途：用于高導熱材料（PI膜）的真空碳化處理。

特點：

●1600℃以內高溫爐體，可完全滿足PI膜的碳化處理；

●高精度熱電偶分區測溫控溫，保證測溫精度和爐溫均勻；

●采用數顯化智能控溫系統，全自動高精度完成測溫控溫過程，系統可按給定升溫曲線升溫，并可貯存四條共40段不同的工藝加熱曲線； 

●設備具有測量記錄功能，可記錄溫度參數，數據可查詢和拷貝到移動U盤；

●采用臺灣電力調整器，非常完善的可控硅超載、短路和誤觸發，和過壓保護；

●采用多通道數據采集，并于人機界面顯示與操作，整機運行參數一目了然，易于操作；

●爐體：雙層水冷結構,可抽負壓真空；具有真空管道界面，增加真空破壞閥，充氣孔；

●溫度均勻：方籠式石墨棒組合加熱方式，溫度均勻性好；

●操作方便：爐體采用臥式，前后雙門，裝料卸料方便，操作簡單；

●先進的焦油過濾裝置，使得爐內產品揮發分**限度的抽取到爐外，保證了產品的質量和燒結的數量。