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用途：可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的復(fù)合材料的化學(xué)氣相沉積，如C/C復(fù)合材料、SiC復(fù)合材料等的CVD、CVI處理.

特點(diǎn)：

●采用先進(jìn)的控制技術(shù)，能精密控制氣體的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動(dòng)范圍小；

●采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；

●采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無沉積死角，沉積效果好；

●對(duì)沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理；

●采用防腐蝕真空機(jī)組設(shè)計(jì)，持續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng)，維修率低。

沉積爐主要配置

●爐門：絲杠升降//液壓升降/；手動(dòng)鎖緊/自動(dòng)鎖圈鎖緊

●爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼

●爐膽：軟碳?xì)?軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈

●加熱器：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細(xì)顆粒石墨

●工藝氣路系統(tǒng)：體積/質(zhì)量流量計(jì)；手動(dòng)閥/自動(dòng)閥；進(jìn)口/國(guó)產(chǎn)

●真空泵和真空計(jì)---進(jìn)口/國(guó)產(chǎn)

●人機(jī)界面：觸摸屏/工控機(jī)

●電器元件：正泰/施耐德/西門子