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一、概述

SE-m 是一款針對半導體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結構測量的專用型光譜橢偏儀，其采用行業(yè)**橢偏創(chuàng)新技術，自主獨立研發(fā)出行業(yè)** 1 超小微光斑探測測量技術，2 定制超快測量速度，等**技術。可應用透明各類襯底上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量，**適用于微區(qū)圖形的各種光學參數(shù)解析。

二、特色功能

■ 可定制光斑尺寸，*小可達30um；

■ 超快測量，單次測量時間小于0.5秒 ；

■ 系列配置靈活，支持功能定制設計；

■ 結構緊湊，更適應在線集成測量.

三、測量實例

微區(qū)圖形結構測量

四、應用場景

應用于光學常數(shù)測量，**適用于各類光學薄膜等鍍膜檢測應用。