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基于雙光子灰度光刻原理無(wú)掩模微納3D打印

- 適合于制造微光學(xué)衍射以及折射元件

Quantum X新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的核心是Nanoscribe****的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性**結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。

Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)

這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精準(zhǔn)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的**性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地：德國(guó)全進(jìn)口

打印技術(shù)：雙光子灰度光刻 （2GL)

三維橫向特征尺度：160nm

**分辨率：400nm

*小表面粗糙度：≤10nm

激光掃描速度：≤250mm/s

關(guān)鍵特性

高速的2.5維微納制造

光學(xué)質(zhì)量表面和極好的形狀精度

亞微米級(jí)別加工滿足設(shè)計(jì)自由

超快調(diào)整控制打印體素大小，優(yōu)化打印過(guò)程

自動(dòng)化的打印流程，例如校正、打印和實(shí)時(shí)

監(jiān)控 廣泛的基板-樹(shù)脂組合選擇

按任務(wù)順序連續(xù)進(jìn)行打印

可觸摸屏和遠(yuǎn)程電腦操控

納糯三維科技（上海）有限公司作為德國(guó)Nanoscribe獨(dú)資子公司擴(kuò)大了亞太地區(qū)業(yè)務(wù)范圍，同時(shí)也加強(qiáng)了售后服務(wù)支持。