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電子束蒸發技術

NEE-4000（M）電子束蒸發系統概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔體的配置，其中樣品臺位于主腔體內，二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，實現基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基片時，他可以通過第三方的預真空鎖來實現，這可以設置于立方體的左側。通過PC計算機控制，系統可以提供多電子束源的共蒸發能力，以及對組分或組分梯度進行編程的能力。

NEE-4000（M）電子束蒸發系統特點：

• 順序蒸發或共蒸發

• 雙電子束源

• 多凹槽電子槍

• 可編程電子束掃描

• 10KW開關電源

• 渦輪分子泵，極限真空5x10-7Torr

• 手動上下載片，帶預真空鎖

• 材料和襯墊更換非常方便

• 晶振式膜厚監測儀

• 通過LabView軟件實現PC計算機控制

• 菜單驅動，四級訪問密碼保護

• 完全的安全聯鎖

NEE-4000（M）電子束蒸發系統Features：

• Sequential or Co-Evaporation

• Dual E-Beam Source

• Multi-Pocket E-Gun

• Programmable Beam Scan

• 10 KW Switching Power Supply

• Turbomolecular Pump， 10^-7Torr

• Manual Load/Unload w/Load Lock

• Easy Material and Liner Change

• Crystal Thickness Monitor

• PC Controlled with LabVIEW

• Recipe Driven， Password Protected

• Fully Safety Interlocked