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PMMA(polymethyl methacrylate)是一種非常適合許多成像和非成像微電子應(yīng)用程序的聚合物材料。通常用于電子束工藝曝光，如T-gate制造。還用于臨時晶片接合工藝如晶片減薄，用作保護層和臨時粘合劑。

PMMA光刻膠是PMMA聚合物被溶解在特定的分子量溶劑中，如苯甲醚（安全的溶劑），然后過濾。傳統(tǒng)曝光，直接寫曝光或X-射線曝光使聚合物的斷鏈，從而在光刻膠的曝光和未曝光區(qū)域之間產(chǎn)生溶解度差異，實現(xiàn)非常高分辨率的圖像。

PMMA的分類：

1）PMMA 495 A系列

2）PMMA 495 C系列

3）PMMA 950 A系列

4）PMMA 950 C系列

PMMA特性：

1）溶劑：苯甲醚（A）和氯苯（C）

2）非常適合于電子束光刻和X射線曝光

3）高分辨率：<0.1um，PMMA 950適用于高分辨率的應(yīng)用，PMMA 495則相對較低

4）廣范圍分子量和粘度

應(yīng)用：電子束光刻、多層T-Gate剝離、晶圓減薄等。

相關(guān)溶液：

1）顯影液：MIBK:IPA

2）去膠劑：Remover PG

3）稀釋劑：A Thinner

一般儲存溫度：

10-27℃