粉體行業(yè)在線展覽
HVPE氣相外延
面議
華旗科技
HVPE氣相外延
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產品性能:
*工作溫度:200~1200℃/2200℃
*結構方式:水平/垂直,片數:1/3/6/多片(科研/生產型)
*多溫區(qū),動態(tài)高精度生長條件控制
*低壓、常壓、微正壓工藝方式,襯底片升降、旋轉(厚膜/晶體生長)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機