粉體行業在線展覽
面議
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gL2000種類
1)gL2000-L
2)gL2000-M
3)gL2000-H
gL2000材料特性
1)高速、高分辨率
2)可調制顯影加工
3)高分辨率顯影
4)高耐干蝕刻(優于PMMA)
gL2000相關溶液
1)顯影液:gL Developer(標準顯影液)
gL Developer HR(高分辨率顯影液)
2)清洗劑:gL Rinse
3)去膠劑:gL Remover
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機