粉體行業在線展覽
尾氣處理設備
面議
上海至純
尾氣處理設備
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主要應用于泛半導體行業的生產工藝 處理 酸性,堿性,可燃,脫硫 及 一些特殊氣體。其中采用干式吸附處理原理 不需要用水,徹底杜絕氣體反映源;一備一用 閥門采用 手/自動一體切換的設計;采用進口吸附劑原料配比 吸附效率高 , 延長周期 設備使用壽命長等特點,其中設備 及 吸附藥劑 自主國產化,品質保障且交期快,客戶滿意度高。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機