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UP-510 碟形腔式MPCVD設(shè)備
面議
優(yōu)普萊
UP-510 碟形腔式MPCVD設(shè)備
770
UP-510系列碟形腔式MPCVD設(shè)備設(shè)計先進(jìn),性能可靠。硬件配置穩(wěn)定可靠,軟件系統(tǒng)集成度高,易于操作。沉積面積**可達(dá)3英寸,生產(chǎn)效率高,適合于生長大面積金剛石薄膜,也可用于單晶多晶金剛石的大批量生產(chǎn)。
1.大功率微波系統(tǒng) | |
微波頻率 | 2450±25MHz |
輸出功率 | 0.6kw~10kw 連續(xù)可調(diào) |
微波泄漏 | 離設(shè)備 5cm 處,微波泄漏≤ 2 mw/cm2 |
2.真空系統(tǒng) | |
工作氣壓范圍 | 10~300Torr |
自動穩(wěn)壓范圍 | 40~250Torr |
真空泵 | 4.4L/s 旋片式真空泵 |
系統(tǒng)漏率 | <1x10-9 Pa*m3 /s (通過氦質(zhì)譜檢漏儀檢測) |
腔體保壓能力 | 每 24 小時壓升小于 0.5 Torr |
本底極限真空 | 1Pa |
3.真空反應(yīng)腔及基片臺 | |
反應(yīng)腔材料及結(jié)構(gòu) | 碟形不銹鋼反應(yīng)腔 |
觀察窗口 | 四個 CF 端口, 90°分布。 |
測溫窗口 | 四個 CF 端口, 90°分布。 |
自動控制上蓋開關(guān) | |
鉬基片臺直徑 | **150mm,建議直徑范圍 60mm ~75mm |
樣品臺可上下移動 | |
4.氣路 | |
系統(tǒng)自帶四路 MFC | |
選用日本進(jìn)口流量計及流量控制閥 | |
5.測溫系統(tǒng) | |
選用德國品牌紅外測溫,范圍:300~1300 攝氏度 | |
6.軟件 | |
配置 PLC 控制的 15“觸摸顯示屏,用戶操作界面友好,所有操作均可在觸摸屏上完成 | |
自帶缺水,缺氣,電源缺相,火球跳變,過溫過載,打火等自動保護(hù) | |
生產(chǎn)流程通過工藝配方自動控制,可設(shè)置多達(dá)十套工藝配方 | |
系統(tǒng)自帶全自動抽氣,點(diǎn)火,升溫,降溫等預(yù)設(shè)流程,用戶操作簡便 | |
全自動溫度控制,氣壓控制,極大減輕系統(tǒng)操作員的工作量 |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機(jī)