粉體行業(yè)在線展覽
SSB200小Mask系列曝光機
面議
上海微電子
SSB200小Mask系列曝光機
943
產(chǎn)品特征
高精度
精密的光學(xué)系統(tǒng)和先進(jìn)的測校等技術(shù),保證設(shè)備高分辨率,支持新型顯示屏的高精度曝光。
低使用成本
較低的運營和維護(hù)費用:采用標(biāo)準(zhǔn)6英寸掩模(或其加長版),2倍放大成像,顯著降低掩模費用。
可拼接曝光大尺寸屏
采用精密的拼接策略,依靠優(yōu)良的控制能力,可實現(xiàn)更大尺寸顯示屏幕的拼接曝光。
工藝適應(yīng)性強
支持多種基板尺寸,可選配紅外等多種對準(zhǔn)光源波長,適應(yīng)各種曝光工藝工況。具有多達(dá)45片工位的掩模版庫,每片獨立版盒,對生產(chǎn)制造非常方便。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機