粉體行業在線展覽
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立式爐設備
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盛美半導體設備（上海）股份有限公司
美國
面議
盛美半導體
立式爐設備
1101
具有高產、可靠和穩定的性能。通過高精度的溫度控制技術、良好的均勻性和小顆粒控制，來保持優異的薄膜質量；
通過更高性能的增強設計實現高產能，并減少停機維護時間；
運用氣體對腔體進行干法清洗，來控制小顆粒雜質；
裝載區運用低氧控制技術以抑制晶圓表面的自然氧化。
可以一次性操作裝載的晶圓數量為50-125片（晶圓/批）
可配備快速升降溫控制系統
腔體原位干法清洗系統
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
