粉體行業在線展覽
全自動12寸晶圓拋光機
面議
江蘇元夫
全自動12寸晶圓拋光機
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全自動12寸晶圓拋光機
為應對當前高端集成電路制造國產化趨勢,研發出12吋全自動高產能CMP(化學機械研磨)設備,滿足客戶多種工藝應用場景需求、提供整體解決方案,**化地降低客戶設備運維成本、提高單位面積/單位時間的產出率。
設備特點
多線程跑貨,高WPH
模塊化布局,分區維護
自主研發多分區研磨頭
干進干出,馬蘭戈尼提拉干燥
搭配在線量測IM,實現APC
高速響應、高精度Endpoint技術
用于Oxide/Si/STI/W/Cu/Poly等CMP制程
可支持天車系統,實現全自動派工
適配全工業化生產系統MES/RMS/FDC/PMS等
具備自主知識產權創新技術
標準機臺尺寸:長5.7m*寬2.8m*高2.7m
Qgrind 100
Chiron 250DA
雙面研磨/拋光6S、9B、9.6B系列
ED16B
金相試樣磨拋機
MECPOL-PA進口自動磨拋機
PG6鏡面拋光機
SiC CMP拋光設備
干冰拋光設備-XJ-96
非金屬拋光機
PS-942小面積異型打磨機
GY-XB70下擺機