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氣體團簇粒子束GCIB

簡介

PHI Ar₂₅₀₀ 氣體團簇離子槍是進(jìn)行深度分析有機物和聚合物而不破壞其化學(xué)狀態(tài)的有效工具。類似于C₆₀的應(yīng)用，使一次離子束得能量均分到60個碳原子上； Ar₂₅₀₀能獲得更低的沖擊能量，由于其團簇是由2500個氬離子構(gòu)成。這種Ar₂₅₀₀ GCIB氬離子在深度分析時，對樣品造成的破壞很小，同時也避免了類似C-60離子濺射過程中離子堆積的可能性。總之， Ar₂₅₀₀ GCIB自身非常適合深度分析，如聚亞酰胺（PI）等廣泛用于半導(dǎo)體、太陽能電池和顯示器工業(yè)的材料。ULVAC-PHI該型號產(chǎn)品在第五十七屆國際博覽會（2011年10月17-22日在Albuquerque, NM.舉行）上被美國真空學(xué)會（AVS）授予**展品獎。

圖1 - ULVAC-PHI**的Ar₂₅₀₀ GCIB型離子槍

應(yīng)用優(yōu)勢

聚亞酰胺（PI）薄膜樣品用不同Ar離子束流能量濺射后，下面的表格1總結(jié)了XPS測試的濺射前后化學(xué)組成。

表1 - Ar離子濺射前后聚亞酰胺（PI）樣品原子濃度的匯總

從上面的結(jié)果中，看出Ar離子濺射后聚亞酰胺樣品化學(xué)組成明顯改變，該樣品緊接著用配有Ar₂₅₀₀ GCIB的XPS進(jìn)行深度剖析。如下圖2所示，Ar₂₅₀₀ GCIB可以非常有效地移除受損層，并將PI層恢復(fù)其原本得化學(xué)結(jié)構(gòu)，由此可見，即使如PI般的樣品，用Ar₂₅₀₀ GCIB濺射的時也不會對化學(xué)組成造成破壞。

圖2 - Ar離子濺射后的受損層，經(jīng)Ar₂₅₀₀ GCIB剝離后，回到PI的初始狀態(tài)