粉體行業(yè)在線展覽
LPCVD立式爐
面議
山東力冠
LPCVD立式爐
202
半導(dǎo)體集成電路制造的重要設(shè)備之一,主要用于POLY, D-POLY, SiN,TEOS。
LPCVD equipment is one of the important equipments for semiconductor integrated circuit manufacturing,which is mainly used for the growth of LP-POLY,LP-DPOLY,LP-SiN,LP-TEOS thin films.
坩堝下降爐
MPCVD長(zhǎng)晶爐
HVPE外延爐
垂直布里奇曼法(VB)爐(非銥技術(shù))
導(dǎo)模法長(zhǎng)晶爐
HVPE長(zhǎng)晶爐
籽晶粘接設(shè)備
液相法長(zhǎng)晶爐
PVT法長(zhǎng)晶爐
LPCVD臥式爐
LPCVD立式爐
SiC高溫退火爐
JRF 系列
略
VSF-V 石英槽沉爐
氮化鋁粉體量產(chǎn)爐
厚膜燒結(jié)爐
碳化硅涂層CVD爐
蓄熱式熱力氧化RTO
中頻感應(yīng)爐
燒結(jié)爐(硬質(zhì)合金)
FZL(T)-360/17
YSJ-171212
鋼帶傳動(dòng)隧道式電阻爐