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X射線透射顯微成像/能譜(同步輻射)用氮化硅薄膜窗口

產(chǎn)品概述：

X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的**透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時(shí)承載樣品。 X-射線越軟(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作(即薄膜與光束成一定角度)時(shí)，也需要較薄的薄膜窗口，便于X射線更好地穿透。

氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成，由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅(0-250MP)薄膜，因此比計(jì)量式和ST氮化硅薄膜更堅(jiān)固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域，例如，X-射線(上海光源透射成像/能譜線站)、TEM、SEM、IR、UV等。

現(xiàn)在提供X-射線顯微成像/能譜(同步輻射)用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品，規(guī)格如下：

外框尺寸 (4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格):

5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm或和 1.5 mm 方形)

7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm或 2.5 mm)

10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm或 5 mm 方形)

邊框厚度： 200µm、381µm、525µm。

Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm

我們也可以為用戶定制產(chǎn)品(30-500nm)，但要100片起訂。

本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品，不建議用戶重復(fù)使用，本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗，適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。

技術(shù)指標(biāo)：

透光度：

對(duì)于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對(duì)于軟X射線(例如碳邊吸收譜)，100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶**。

真空適用性：

真空適用性數(shù)據(jù)如下：　

薄膜厚度 窗口面積 壓力差

≥50 nm ≤1.0 x 1.0 mm 1 atm

≥100 nm ≤1.5 x 1.5 mm 1 atm

≥200 nm ≤2.5 x 2.5 mm 1 atm

表面平整度：

氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品的表面平整性很穩(wěn)定(粗糙度小于1nm)，對(duì)于X射線應(yīng)用沒有任何影響。

溫度特性：

氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品是耐高溫產(chǎn)品，能夠承受1000度高溫，非常適合在其表面利用CVD方法生長(zhǎng)各種納米材料。

化學(xué)特性：

氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。

應(yīng)用簡(jiǎn)介和優(yōu)點(diǎn)：

1、同步輻射X射線(紫外或極紫外)透射成像或透射能譜應(yīng)用中是不可或缺的樣品承載體。

2、耐高溫、惰性襯底，適應(yīng)各種聚合物、納米材料、半導(dǎo)體材料、光學(xué)晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜(薄膜直接沉積在窗口上)。

3、生物和濕細(xì)胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。

4、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學(xué)反應(yīng)和退火效應(yīng)的原位表征。

5、適合做為膠體、氣凝膠、有機(jī)材料和納米顆粒等的表征實(shí)驗(yàn)承載體。

氮化硅薄膜窗口系列

SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm

SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm

SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm

SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm

SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm

SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm

SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm

SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm

SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：50nm

SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：100nm

SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：150nm

SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：200nm

氮化硅薄膜窗口陣列系列

SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，2×2陣列，膜厚：50nm

SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列；膜厚：50nm

SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm

氧化硅薄膜窗口系列

SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm

SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm

SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm

SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：50nm

SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：100nm

SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：200nm

氮化硅薄膜窗口系列

SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm

SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm

SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm

SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm

特殊定制產(chǎn)品

SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：500nm

SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：1000nm

SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整張，10×10mm切片

襯底厚度：200um 溫度范圍：1000℃ 真空適應(yīng)：1個(gè)大氣壓

厚度可以選擇：200um，381um，525um，需要提前說明。

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