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面議
1735
適合用于科研領(lǐng)域
臺式激光直寫機(jī)
操作簡單,可支持灰度光刻
μPG101是一款經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且易于操作的圖形發(fā)生器,適用于直寫和少批量的掩模板制作。該系統(tǒng)可用于MEMS、Bio MEMS、Integrated Optics、Micro Fluidics或任何其他需要高精度、高分辨率微結(jié)構(gòu)的制作。
μPG101的面積僅為60x75cm2,設(shè)計(jì)精巧,將所有電子組件集成在系統(tǒng)中,由系統(tǒng)控制主機(jī)運(yùn)作。基于Windows®的控制接口,使用戶可以輕松進(jìn)行數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)文件,經(jīng)過手動(dòng)或自動(dòng)對準(zhǔn)之后,即可開始曝光。
μPG101主要提供簡單快速的方式來創(chuàng)建微結(jié)構(gòu)。系統(tǒng)可透讀寫模塊的更換,以滿足不用的分辨率和寫入速度的要求。它是市面上**達(dá)到亞微米結(jié)構(gòu)的桌上型光刻系統(tǒng),即使是偏小網(wǎng)格,依然具有非常高精度的結(jié)構(gòu)。實(shí)時(shí)自動(dòng)對焦系統(tǒng)可在曝光期間實(shí)時(shí)監(jiān)控和校正聚焦位置,從而確保整個(gè)曝光區(qū)域的高分辨率和可重復(fù)性。精密網(wǎng)格和實(shí)時(shí)自動(dòng)對焦裝置是專業(yè)微圖型發(fā)生器的標(biāo)準(zhǔn)要求。
μPG101的應(yīng)用包括 Life Science 、MEMS 、 Semiconductor 、Sensors、Actuators、MOEMS、Material Research、Nano-Tubes、Graphene以及任何其他需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。
功能
寫入速度高達(dá)90毫米2/分鐘
基板6 x 6”
降至0.6μm結(jié)構(gòu)
標(biāo)準(zhǔn)或紫外光源
多種數(shù)據(jù)輸入格式
基本灰度曝光模式
對準(zhǔn)攝像系統(tǒng)
多種可交換的寫模式
矢量和柵格曝光模式
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機(jī)