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生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-UHV

直接聯(lián)系

合肥致真精密設(shè)備有限公司

安徽

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

參考報(bào)價(jià)：

面議

品牌：

致真精密

型號(hào)：

生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-UHV

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產(chǎn)品介紹

生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備是針對(duì)企業(yè)和高校實(shí)驗(yàn)室及小試線研發(fā)的高性能、高效率的磁控濺射裝備，該超高真空版本提供更高的濺射室真空度，兼具高性能薄膜的制備和小批量量產(chǎn)的需求。MSI-100-UHV型磁控濺射設(shè)備極限真空度優(yōu)于1×10-8mbar，包括進(jìn)樣室和濺射室，可滿足8inch晶圓上高精度納米級(jí)材料的生產(chǎn)制備需求。

性能參數(shù)

晶圓尺寸	8inch向下兼容
鍍膜均勻性	優(yōu)于±3%
極限真空	優(yōu)于1×10-8mbar
進(jìn)樣室	自動(dòng)傳輸，可選裝載數(shù)量，可選機(jī)械臂抓手形狀，獨(dú)立真空系統(tǒng)
樣品臺(tái)溫控	輻射加熱，RT-800℃ 可選rt-1200℃
陰極數(shù)量	4個(gè)4inch
電源	DC、RF、DC Pulse
占地面積	3m L2m W2m H
可選	濺射角度、濺射方向、低溫泵、反應(yīng)濺射、膜厚儀、工藝菜單等

六大特色懂你所需

企業(yè)/高校性能之選

測(cè)試案列

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，高校實(shí)驗(yàn)室和企業(yè)對(duì)于具有高性能、低成本、高效率等優(yōu)點(diǎn)的磁控濺射裝備有著巨大需求。其中設(shè)備需要滿足在8inch晶圓上制備薄膜的均勻性。
如圖是8寸晶圓上鍍鈦膜均勻性測(cè)試。
（沉積條件：4寸靶傾斜沉積8寸晶圓，采用直接濺射或增大靶材磁村可提高至2%以內(nèi)）