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單面精密晶圓銅拋機(jī)
面議
夢啟半導(dǎo)體
單面精密晶圓銅拋機(jī)
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設(shè)備優(yōu)勢
◎ 本設(shè)備為單面精密研磨設(shè)備,采用先進(jìn)的機(jī)械結(jié)構(gòu)和多種先進(jìn)控制方法。研磨加工效率高,運(yùn)行穩(wěn)定。
◎ 整機(jī)采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡單方便,系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定性高。
◎ 主電機(jī)采用變頻調(diào)速控制,實(shí)現(xiàn)主機(jī)軟啟動、軟停機(jī),降低設(shè)備運(yùn)行沖擊,減少工件損傷。
◎ 工件研磨壓力采用氣缸加壓方式,通過電氣比例閥控制實(shí)現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制,保證極高的施壓精度與穩(wěn)定性。
◎ 上壓盤采用主動驅(qū)動方式,在確保產(chǎn)品研磨速率的前提下保證各工位研磨加工的統(tǒng)一性。
◎ 研磨盤冷卻水冷卻功能,在保證研磨液發(fā)揮**效率的同時(shí)減少研磨盤面的變形。
◎ 設(shè)備自帶盤面修整機(jī),盤面修整后可保證0.01mm的盤面平整度。
性能參數(shù)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機(jī)