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面議
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法國(guó)JFP是****的手動(dòng)、半自動(dòng)引線鍵合機(jī)的制造商,其產(chǎn)品特別適合于從實(shí)驗(yàn)研究到小規(guī)模試產(chǎn)的電子封裝的需要。
全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研發(fā),產(chǎn)品原型試產(chǎn),產(chǎn)品評(píng)估,產(chǎn)品返修等在有限預(yù)算下,同時(shí)必須要保證高質(zhì)量鍵合的用戶。
WB-200半自動(dòng)引線鍵合機(jī)可進(jìn)行球焊、鍥焊、金線鍵合、跳焊(Pump)等。
技術(shù)規(guī)格特點(diǎn):
- 鍥焊、球焊、跳焊;
- 半自動(dòng)和手動(dòng)鍵合模式;
- 焊線直徑:17μm - 50μm;
- 焊臂長(zhǎng)度:165mm (6.7”);
- 焊頭進(jìn)入深度:16mm;
- 可存儲(chǔ)50個(gè)程序;每個(gè)程序50 step
- 電機(jī)驅(qū)動(dòng)Z軸壓頭;
- 溫控加溫,高達(dá)250度,自動(dòng)送絲;
- 數(shù)字控制,LCD顯示;
- 數(shù)字編程:鍵合力,鍵合時(shí)間,溫度等鍵合參數(shù);
-立式相機(jī),側(cè)面相機(jī)可選
參考客戶:
中科院納米中心;深圳大學(xué),西安交通大學(xué)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機(jī)